資料詳細

関東学院大学材料・表面工学研究所/編 -- 日刊工業新聞社 -- 2019.3 -- 566.7

  • 総合評価
    5段階評価の0.0
    (0)
  

所蔵

所蔵は 0 件です。予約は 0 件です。

館別所蔵

館名 所蔵数 貸出中数 貸出可能数

資料詳細

タイトル ドライプロセス表面処理大全
シリーズ 技術大全シリーズ
著者名 関東学院大学材料・表面工学研究所 /編  
出版者 日刊工業新聞社
出版年 2019.3
ページ数等 285p
大きさ 21cm
分類(9版) 566.7  
分類(10版) 566.7  
内容紹介 真空や大気圧下で金属、無機化合物、有機化合物などの薄膜を形成する表面処理方法であるドライプロセス。真空技術や基板前処理などの基礎、PVD、CVD、エッチングなどの原理を解説し、応用例や最新技術等を紹介する。
テーマ 金属表面処理 , 薄膜  
ISBN 4-526-07968-9 国立国会図書館 カーリル GoogleBooks WebcatPlus
本体価格 ¥3000
特定資料種別 図書
URL https://www.library.city.hiroshima.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1110326126